日本東京表面處理技術(shù)展覽會 ASTEC

　　日本東京表面處理技術(shù)展覽會 ASTEC

　　展會時間： 2023年02月01日 ~ 02月03日開放時間： 10:00-18:00

　　展覽行業(yè)： 表面處理

　　主辦單位： JTB Communication Design，Inc

　　舉辦地址： 日本 - 東京 - 日本東京有明國際會展中心

　　舉辦周期： 一年一屆展覽面積： 20000平方展商數(shù)量： 500家觀眾數(shù)量： 31582人

　　展會介紹熱度: 153522023年日本東京表面處理技術(shù)展覽會 ASTEC由JTB Communication Design，Inc舉辦，舉辦周期為：一年一屆，本屆展會將在2023年02月01日舉辦，展會地點日本-東京-日本東京有明國際會展中心，展會預(yù)計展覽面積達到20000平米,參展觀眾數(shù)量達到31582人，參展商數(shù)量及參展品牌達到500家。

　　日本東京表面處理技術(shù)展覽會ASTEC是國際上表面處理和涂層技術(shù)最專業(yè)的展覽會之一，每年一屆在東京有明國際會展中心舉辦。

　　展覽的主要內(nèi)容是電鍍，清洗，預(yù)表面涂裝技術(shù)，工業(yè)等離子表面處理，納米技術(shù)，紡織材料，測量，測試和分析設(shè)備等。展會匯集了所有的表面處理技術(shù)和方法，是推動表面處理、表面光潔度和表面涂層的發(fā)展。展會展示了廣闊的市場覆蓋面創(chuàng)造了表面處理技術(shù)和應(yīng)用的所有供應(yīng)商的理想的營銷環(huán)境。

　　展品范圍

　　金屬表面的清潔和預(yù)處理: 表面清潔和預(yù)處理設(shè)備(鉻酸鹽處理設(shè)備;使用有機溶劑去油和清潔設(shè)備;使用水溶劑去油和清潔設(shè)備;使用散體單元處理用振動設(shè)備;去除薄膜和油漆用流化設(shè)備;表面清潔用激光設(shè)備;鈍化設(shè)備;磷化處理設(shè)備;酸洗設(shè)備;表面清潔用等離子系統(tǒng);噴砂處理表面硬化用設(shè)備;超聲波設(shè)備;蒸汽噴砂處理設(shè)備;表面清潔和預(yù)處理設(shè)備附件);表面清潔和預(yù)處理用輔料(鉻酸鹽處理劑;清潔和去油劑;去垢劑;濕潤劑、清潔劑、添加劑;磷化劑;酸洗劑;蒸汽噴砂用研磨材料;防腐蝕表面保護劑)

　　金屬產(chǎn)品熱處理和表面熱化學(xué)處理: 涂層材料、涂層和輔助材料;金屬產(chǎn)品深度熱處理和熱化學(xué)表面處理用設(shè)備(熱處理操作用熱爐和裝置;冷卻用和洗滌變化物用設(shè)備(容器、液體容器及其它);電感應(yīng)加熱器;設(shè)備用輔助配件);熱處理和熱化學(xué)表面處理技術(shù)(非擴散性表面處理;擴散性表面處理;擴散性金屬化處理;熱噴涂技術(shù)與設(shè)備;電火花噴涂應(yīng)用技術(shù);等離子技術(shù);薄膜科技;CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù);PVD(物理氣相沉積)技術(shù);聚束技術(shù);離子注入技術(shù);電子技術(shù);激光技術(shù);爆炸技術(shù);熱處理機械化與自動化生產(chǎn)線)

　　電鍍技術(shù): 電解電鍍;電解技術(shù)用化學(xué)品;電解技術(shù)設(shè)備(離心機;配料設(shè)備;空氣和排放物凈化系統(tǒng)和設(shè)備;過濾器;裝載和卸載設(shè)備;大規(guī)模電鍍用設(shè)備;開路控制系統(tǒng);再生系統(tǒng);整流和電極開關(guān)系統(tǒng);其他);電解技術(shù)用化學(xué)和電解系統(tǒng)

　　上漆及施加塑料和橡膠涂層: 涂層和涂層材料(電沉積噴涂用涂料;涂層燒結(jié)和上漆顏料;溶劑涂料和油漆;水性涂料和油漆;低溶劑含量的涂料和油漆;粉劑涂料;丙烯酸有機硅涂料;油質(zhì)清漆;橡膠涂料;塑料涂層);施加涂層用的設(shè)備(手持和自動噴槍;噴涂房、密閉室、過濾墻;上漆及施加塑料和橡膠涂層的自動化設(shè)備;上漆及施加塑料和橡膠涂層的完整噴涂系統(tǒng);上漆及干燥臺;沉浸式涂漆機器與設(shè)備;沉浸式涂漆用電鍍設(shè)備;鍍膜機器;流動涂附設(shè)備;施加塑料及橡膠用機器;粉末噴涂設(shè)備;絲網(wǎng)印刷機;噴涂機;真空浸漬設(shè)備;鍍膜燒結(jié)設(shè)備);提供材料和輔助的設(shè)備(上漆準備用設(shè)備;過濾器和過濾設(shè)備;材料循環(huán)設(shè)備;輔料配料設(shè)備;壓力池;輔料泵);吸收、分離和恢復(fù)涂層材料和溶劑的設(shè)備;干燥設(shè)備(離心干燥機;對流干燥機;電子干燥機;上釉爐;輻射干燥機;紫外線干燥機;真空干燥設(shè)備;排水裝置)

　　精細表面處理: 附件和輔助設(shè)備(工藝刷;打磨拋光膏、乳劑、酸保護劑;拋光用技術(shù)設(shè)備;清洗機械);精細處理設(shè)備(光亮設(shè)備;氧化設(shè)備;擦拭設(shè)備;磨鈍尖銳邊緣、打磨和拋光設(shè)備;噴砂機;標志漆涂層用機器;產(chǎn)品表面光化學(xué)硬化設(shè)備)

　　表面處理的其他設(shè)備: 熱交換;冷卻機器與設(shè)備;通風系統(tǒng);噴丸加工設(shè)備;測量和監(jiān)控設(shè)備、研究設(shè)備：研究設(shè)備;供應(yīng)實驗室產(chǎn)品;測量和監(jiān)控設(shè)備

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